聚焦国瑞升资讯

碳化硅(SiC) 衬底片的工艺优化和对应抛光耗材

优化后的工艺条件的优势只要集中在第二道粗抛工序上，这一道工艺由粗抛液（GRISH复合粗抛液）匹配对应的粗抛垫具有较快的抛光速率，关键是表面粗糙度较小，便可大大减少精抛工序的压力。精抛液是针对碳化硅材料做的配方设计，也同时具有较高的抛光速率还能提高产品表面质量。总之整体可减少目前碳化硅衬底的加工工序，提高生产效率。